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一种新型可调基片输送辊装置

  • 申请号:CN201120226364.3 申请公布号: CN202170362U
  • 申请日: 2011-06-30 申请公布日: 2012-03-21
  • 申请(专利权)人:东莞市华科制造工程研究院有限公司,广东志成冠军集团有限公司 专利代理机构: 广州华进联合专利商标代理有限公司
  • 分类号:C23C14/35;C23C14/50

专利介绍

本实用新型公开了一种新型可调基片输送辊装置,空间位置可调,能保证其刚性和可靠性,本装置设有阶梯轴,阶梯轴外围设有轴承座,轴承座为偏心结构,阶梯轴通过轴承座固定于真空腔墙体上,轴承座的安装孔的中心线与真空腔墙体的中心线偏离0.5~1mm,阶梯轴真空室内的一端的光轴段上套接有传送辊,传送辊通过传送键卡接阶梯轴,传送辊的两侧均设有一组螺母,阶梯轴的光轴段端部具有细牙螺纹,阶梯轴真空室外的一端套接有同步带轮,同步带轮通过传送键卡接阶梯轴;本实用新型不仅可以提高基片的镀膜质量,还可以降低焊接、加工、装配等工序要求,使设备制造成本降低,能在轴向和径向上可调,保证调整精度。
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