本发明公开了一种新型可调基片输送辊装置，空间位置可调，能保证其刚性和可靠性，本装置设有阶梯轴，阶梯轴外围设有轴承座，轴承座为偏心结构，阶梯轴通过轴承座固定于真空腔墙体上，轴承座的安装孔的中心线与真空腔墙体的中心线偏离0.5～1mm，阶梯轴真空室内的一端的光轴段上套接有传送辊，传送辊通过传送键卡接阶梯轴，传送辊的两侧均设有一组螺母，阶梯轴的光轴段端部具有细牙螺纹，阶梯轴真空室外的一端套接有同步带轮，同步带轮通过传送键卡接阶梯轴；本发明不仅可以提高基片的镀膜质量，还可以降低焊接、加工、装配等工序要求，使设备制造成本降低，能在轴向和径向上可调，保证调整精度。
