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专利详情
一种薄膜及其制备方法、应用
申请号：
CN201711479664.0
申请公布号：
CN109994650A
申请日：
2017-12-29
申请公布日：
2019-07-09
申请（专利权）人：
深圳TCL工业研究院有限公司
专利代理机构：
深圳中一专利商标事务所
分类号：
H01L51/52；H01L51/50；H01L51/56；H01L51/54
专利介绍
本发明属于发光器件领域，提供了一种薄膜及其制备方法、应用。本发明提供的薄膜，一方面，氨基化四氰基醌二甲烷和四甲基联苯胺的配合物可以增加阳极的功函数，有利于空穴注入；另一方面，氨基化四氰基醌二甲烷和四甲基联苯胺的配合物具有很大的共轭键和很强的导电性，其内部存在偶极矩，空穴在偶极矩的作用下快速向发光层迁移，从而增加效率。当将该薄膜材料应用于发光器件时，通过氨基化四氰基醌二甲烷和四甲基联苯胺的配合物作为阳极与有机层之间的修饰层可以提高发光器件效率。
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