本发明公开了一种高纯度高均匀细晶粒锡靶材的制备方法，S1：真空熔炼，将纯度为99.99％的原材料精锡进行熔炼和铸造，得到高纯锡铸锭；S2：轧制加工，将高纯锡铸锭表面刨铣后在室温下进行冷轧，轧制变形量在50％以上；S3：热处理，将冷轧后的高纯锡进行退火，退火温度为60～140℃，退火时间为60～120min，空冷或水冷，得到高纯锡靶材坯料；S4：机械加工，将高纯锡靶材坯料进行机械加工，得到需要的高纯度高均匀细晶粒锡靶材。高纯度高均匀细晶粒锡靶材的制备方法，简单方便，成本低廉，便于操作实施。整个生产过程中对生产设备要求较低，能够大大减少设备成本投入，进一步降低了生产成本。该制备方法普适性高，适用于规模化工业生产。
