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半导体光电换能器的有源区及其形成方法

  • 申请号:CN201910674671.9 申请公布号: CN110767759A
  • 申请日: 2019-07-25 申请公布日: 2020-02-07
  • 申请(专利权)人:南京奥斯登电子信息产业研究院有限公司,桑尼道特(南京)电子科技有限公司 专利代理机构: 北京市京大律师事务所
  • 分类号:H01L31/0304;H01L31/0352

专利介绍

本发明提供一种优化半导体光电换能器有源区特性的方法,其特征是:1.所述有源区包含多层堆栈结构;2.每层结构包含了“量子点——量子阱”复合结构(以下简称“量子点阱”结构)以及薄覆盖层;3.该薄覆盖层用于保护量子点阱结构,使其在外延生长过程中不会劣化。所述劣化现象包括(但不限于)表面团聚、原子扩散、以及原子互混。所述量子点阱结构包括(但不限于)形状、尺寸、以及化学成分。本发明使得利用现有外延生长技术,制备多层、均一的量子点阱结构(超过25层)成为可能。作为一个实例,InGaAs材料可用于形成量子点阱结构,AlAs材料可用作薄覆盖层。
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