您好,欢迎来到达州工业云! 平台首页 企业驾驶舱 帮助中心 企业登录 企业注册

HI,欢迎使用达州工业云平台!

账号必须大于2位

创新资源平台
服务平台首页>协同创新>专家库>专家详情

张鹏(教授)

所属单位:四川大学机械工程学院

担任职务:

擅长领域:

联系方式: 15198183204 邮箱:登录后查看

教育背景及工作经历  

教育背景

2007.9 - 2011.7 同济大学 机械设计制造及其自动化 学士

2013.9 - 2018.12 西南交通大学 机械设计及理论 博士

工作经历  

2011.7 - 2012.7 上海凯盛节能工程技术有限公司  助理工程师

2019.1 - 至今 四川大学制造科学与工程学院  助理研究员


总体介绍  

        主要从事超精密表面制造、微纳加工技术及应用、纳米摩擦学基础理论的研究工作。在Nature Communications、Tribology international、wear等期刊发表SCI收录学术论文8篇(第一作者3篇),参加国内外高水平学术会议4次(讲座报告)。参与国家重大研究计划及科研项目2项,国家自然科学基金2项。

开设课程  

主要成就

研究领域及在研项目  

1. 纳米摩擦学

2. 半导体材料超精密表面制造

授权专利   发表论文  

[1]P. Zhang, H.T. He, C. Chen, C. Xiao, L. Chen, L.M. Qian. Effect of abrasive particle size on tribochemical wear of monocrystalline silicon, Tribology International 109 (2017) 222-228.

[2]P. Zhang, C. Chen, C. Xiao, L. Chen, L.M. Qian, Comparison of wear methods at nanoscale: line scanning and area scanning, Wear 400-401 (2018) 137-143.

[3]P. Zhang, C. Chen, C. Xiao, L. Chen, L. Jiang, L.M. Qian, Effects of surface chemical groups and environmental media on tribochemical running-in behaviors of silicon surface, Tribology International 128 (2018) 174-180.

[4]L. Chen, J.L. Wen, P. Zhang, B.J. Yu, C. Chen, T.B. Ma, X.C. Lu, S.H. Kim, and L.M. Qian, Nanomanufacturing of silicon surface with a single atomic layer precision via mechanochemical reactions, Nature Communications 9 (2018)

[5]C. Chen, P. Zhang, C. Xiao, L. Chen, L.M. Qian, Effect of mechanical interaction on the tribochemical wear of bare silicon in water, Wear 376-377 (2017) 1307-1313.

[6]C. Xiao, J. Guo, P. Zhang, C. Chen, L. Chen, L.M. Qian, Effect of crystal plane orientation on tribochemical removal of monocrystalline silicon, Scientific Reports 7 (2017) 40750.

[7]C. Chen, C. Xiao, X. Wang, P. Zhang, L. Chen, Y. Qi, L.M. Qian, Role of water in the tribochemical removal of bare silicon, Applied Surface Science 390 (2016) 696-702.

C. Xiao, C. Chen, J. Guo, P. Zhang, L. Chen, L.M. Qian, Threshold contact pressure for the material removal on monocrystalline silicon by SiO2 microsphere, Wear 376-377 (2017) 188-19